Patentrecht und Gebrauchsmusterrecht

Kursnummer: 2016 - 000669
Anbieter: JenALL e. V.
Schwerpunkte:
  • Grundsätze und Geschichte des Erfindungsschutzes
  • Deutsches Patentgesetz
  • Europäisches Patentübereinkommen
  • Internationale Abkommen PVÜ und PCT
  • Verfahrensgrundsätze in Patentsachen (Fristen, Vertretung)
  • Patentschutz im Ausland (insbesondere USA, Japan, China)
  • Nationaler und internationaler Gebrauchsmusterschutz
  • Patentverletzungsverfahren
Teilnehmerkreis:
  • Akademiker
  • Praktiker mit Führungsverantwortung
Maximalteilnehmeranzahl: 25
Termin: Fr., 04.11.2016, 16:15 bis 19:30 Uhr und Sa., 05.11.2016, 09:00 bis 12:15 Uhr
Gesamtlernaufwand: 120 Stunden
Präsenzzeit: 8 Unterrichtsstunden
Bewerbungsende: vier Wochen vor Veranstaltungsbeginn
Dozenten: Professoren / Dozenten der EAH Jena
Abschluss: Teilnahmebescheinigung
Preis: 520,00 €
Ansprechpartner: Peter Perschke, Telefon: 03641 205 124, E-Mail: Peter.perschke(at)fh-jena.de
Besonderheiten: Im Preis inbegriffen sind umfangreiche Selbststudienmaterialien, mit deren Bearbeitung vor der Präsenzveranstaltung begonnen sein sollte.